ビジネス資格の財団法人として１８年　１４０万人の資格を認定

AP渋谷道玄坂（渋東シネタワー11階）

　≪住所≫
　　渋谷区道玄坂2丁目6番17号
　≪アクセス≫
　　JR山手線・埼京線・湘南新宿ライン 渋谷駅ハチ公口より徒歩１分
　　東横線・田園都市線・銀座線・半蔵門線・副都心線 渋谷駅2番出口すぐ
　　井の頭線 渋谷駅徒歩１分

100名※一般の方は30名限定

※会員の方の参加費は無料ですが申込みは必要です。飛び入り参加はできません。
※申込み完了後【入場券】をお送りします。当日受付にて提出してください。
３日前までに届かない場合は、必ずお電話ください。→TEL：03-3239-8648

＜演題＞ ソーシャルメディアリスクの現状と対策

近年フェイスブック（Facebook)やツイッター(Twitter)をはじめとするソーシャルメディア（SNS）は個人・法人を問わず、急激な勢いで利用者数を増やしています。

しかしこれらのサービスはその有用性ばかりが注目され、リスクに関しては注目されてきませんでした。

ある調査によると90％以上の企業においてSNSによって「機密情報漏えいを経験」していることが分かっています。

「従業員の投稿による新商品情報の漏えい」、「従業員の非倫理的な行動に関する投稿による企業ブランドの失墜」など例を挙げればきりがありません。

ソーシャルメディアを利用するに当たっては（従業員に利用させるには）そのリスクを正確に認識し、想定されるリスクに対して適切な施策を実施しなくてはなりません。

本講演ではこのような背景を受けて、「企業におけるSNSのリスク」、また「リスクを低減するための方法・施策」を他社の事例を交えながら紹介いたします。